イオン注入・成膜・分析の技術と設備をあらゆる分野のイノベーションにつなげる。

ION TECHNOLOGY CENTER

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株式会社イオンテクノセンター
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受託研究・開発・受託サービス

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分析

電磁波や荷粒電子を用いた物理分析を行う装置を揃え、立会い分析も可能な受託分析サービスを行っています。
主な装置は「HR-TEM」「Q-pole型SIMS」「μESCA」「RAMAN」など。ミクロ・ナノレベルの表面分析におけるノウハウの蓄積があり、信頼性の高いデータを短期間で提供することができます。また未知試料の分析についてもアドバイスします。

サービス
受託分析

お客様からサンプルを預かり、分析結果を報告します。ご相談により分析手法をご提案させていただきます。

立会い分析

お客様に立ち会っていただき、その場で分析条件の設定から最終結果までを確認していただきます。

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装置
■表面分析
二次イオン質量分析(SIMS)の紹介
二次イオン質量分析(SIMS)の紹介
X線光電子分光分析(ESCA・XPS)の紹介
X線光電子分光分析(ESCA・XPS)の紹介
ラマン分光分析(RAMAN)の紹介
ラマン分光分析(RAMAN)の紹介
ラザフォード後方散乱分析(RBS)の紹介
ラザフォード後方散乱分析(RBS)の紹介
■微少領域形態観察
透過電子顕微鏡(HR-TEM)の紹介
透過電子顕微鏡(HR-TEM)の紹介
走査電子顕微鏡(HR-SEM)の紹介
走査電子顕微鏡(HR-SEM)の紹介
ナノ微少硬度計(Nano Indentation)の紹介
ナノ微少硬度計(Nano Indentation)の紹介
原子間力顕微鏡(AFM)の紹介
原子間力顕微鏡(AFM)の紹介
X線回析装置(XRD)の紹介
X線回析装置(XRD)の紹介
■熱分析
示差熱重量分析(TGD)
示差熱重量分析(TGD)の紹介
示差走査熱重量分析(DSC)
示差走査熱量分析(DSC)の紹介
比熱測定(SHM)
比熱測定(SHM)の紹介
各装置による分析エリアの空間分解能
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分野
例えばこのような情報が知りたいときには・・・
分野 分析使用装置 得られる主な情報
半導体材料関連
薄膜
デバイス
イオン注入試料
HR-TEM 原子レベルの構造観察、結晶構造、転位密度、膜厚
HR-SEM 表面形状、断面構造(膜厚)
XRD 結晶性(面方位)、積層膜の周期構造
XPS/ESCA 表面組成、結合状態、深さ方向分布
SIMS 不純物濃度、深さ方向分析
RAMAN 結合状態、応力歪
RBS 構成元素、組成
Nano Indentation 表面のヤング率、硬度
機能性薄膜関連
DLCなどの表面処理
その他コーティング
HR-TEM 表面ダメージ観察
HR-SEM 表面形状
XPS/ESCA 組成、結合状態(高濃度の場合)、深さ方向分析
SIMS 不純物濃度、深さ方向分析
RBS/ERDA 構成元素、組成
素材・電子部品
パウダー(微粒子)
CNT、グラファイト
プリント基板等
HR-TEM 粒径、結晶構造
HR-SEM 粒径、表面形状(凝集)
XRD 結晶構造
XPS/ESCA 組成、面分析
RAMAN 結合状態
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新分析提案
  • SiC欠陥評価
  • バンドダイヤグラム
  • DLC分析
  • 偏向RAMAN分析
  • 膜厚測定
  • DLC分析(XRR評価)
  • CCD光デバイスのTEM観察
  • 半導体薄膜分析に有効なRBS/ERDA測定
  • ESCAによる有機材料表面分析
  • 学振法による炭素粉末分析
  • 半導体デバイスの開封とレイヤー除去
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実績

以下をクリックするとPDFが立ち上がります。

SIMS
  • 酸素リークによるSIMS深さ分析
  • アルミイオン注入SIMS 深さ分析
  • 砒素イオン注入SIMS 深さ分析
  • 燐イオン注入SIMS 深さ分析
  • SiC 基板へのAl イオン注入SIMS 深さ分析
  • GaN 基板へのSi イオン注入SIMS 深さ分析
  • 化合物半導体系超格子サンプルにおける深さ分解能測定
  • 組成比勾配のあるSi(1-x)Gex 試料の定量化
ESCA
  • ESCA による多層膜の深さ分析
  • ESCA による異物分析
  • ESCA による化学結合分析
  • マイクロESCA による分析
  • マイクロESCA によるマッピング
  • ESCA による酸化膜の角度分解分析_1
  • ESCA による酸化膜の角度分解分析_2
  • ESCA によるプリント基板電極組成分析
RAMAN
  • Si on SiC基板におけるSiの応力測定
  • 偏向RAMANによる4H−SiCの評価
  • RAMAN によるシリコンの分析
  • RAMAN によるカーボン材料の分析
  • RAMAN によるカーボンナノチューブの分析
  • RAMAN によるチタン化合物の分析
  • RAMAN によるDLC の分析
  • RAMAN による歪みSi-SiGe の分析
RBS,ERDA
  • He(H)-RBS,ERDA による軽元素組成分析・密度測定
HR-TEM
  • 高分解能TEM によるSiC(6H)の観察
  • 高分解能TEM による界面の観察
  • 高分解能TEM による量子井戸構造観察
  • カーボンナノチューブの観察例
  • SiC(4H)のHR-TEM 観察
  • HR-TEM による4H-SiC の観察
  • HR-TEM によるSiC-3C の観察
  • HR-TEM によるSiC-3C 膜の観察
  • HR-TEM によるデルタドープ層の観察
  • HR-TEMによるイオン注入欠陥の観察
  • HR-TEM による歪みシリコンの観察
  • HR-TEM による半導体レーザー素子の観察
  • HR-TEM によるSiC ポリタイプ変形観察
  • FIB によるTEM サンプル加工
  • 4H-SiCのHR-TEM観察
  • 4H-SiCエピ層の積層欠陥のHR-TEM観察
  • FIBサンプリング手法改善によるHR-TEM像質の向上
XRD
  • 学振法による炭素粉末材料の格子定数、結晶子径の測定方法
その他
  • EELS,XPSおよびRAMANによるDLC膜の結晶構造評価手法の検証
  • HR-SEM による多層カーボンナノチューブの観察
  • 半導体デバイスのレイヤー解析事例
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