会社案内
研究開発の良きパートナーとして、
社会に貢献する企業として。
日本における研究開発は、これまで大企業および大学等の公的研究機関に、その責務を委ねてまいりました。しかし社会ニーズの多様化、テクノロジーの進化や細分化といった背景のもと、専門領域に特化した研究開発機関の必要性が高まってきています。 弊社イオンテクノセンターは、時代の求めるプロフェッショナル集団として、前身であるイオン工学研究所の事業を引き継いだ形で誕生いたしました。特にイオン注入、成膜、分析を中心とした技術と設備を備えた最先端の研究開発を行い、日本を代表する創造的ラボラトリーをめざします。 企業や大学研究者の方々にとって良きパートナーとなれるように、微力ながらサポートさせていただきますので、今後ともご支援賜りますよう、よろしくお願いいたします。
株式会社イオンテクノセンター
代表取締役社長 石垣 祐紀
主なサービス内容
■イオン注入 ■成膜・分析 ■研究・事業化マネジメント
独創性
仕事・事業の仕組みを考えて行動する
ベンチャー精神
他人事と考えない、ベンチャースピリットを持ち、相互繁栄を目指す
チャレンジ精神
あきらめない、できるまでやる
顧客主義
お客様がどこにあり、何を望んでいるかを考える
技術と事業へのあくなき向上心
高い技術力を維持・向上してその技術力をビジネスに展開する
| 名称 | 株式会社イオンテクノセンター |
|---|---|
| 英語標記 | Ion Technology Center Co.,Ltd |
| 設立 | 2008年6月10日 |
| 事業内容 |
|
| 所在地 | 〒573-0128 大阪府枚方市津田山手二丁目8番1号津田サイエンスヒルズ TEL：(072)859-6611 FAX：(072)859-5770 |
| 役員 | ・代表取締役会長 徃西 裕之 （テクノロジーシードインキュベーション株式会社 代表取締役） ・代表取締役社長 石垣 祐紀 ・常務取締役 長町 信治 ・取締役 浅利 正敏 |
| 関連会社 | TSI（http://www.tsi-japan.com/index.html） |
設立までの経緯
| 1988年 | 第3セクター方式にて「株式会社イオン工学研究所」設立 |
| 1990年 | 津田サイエンスヒルズにて操業開始 大規模国家プロジェクトの受託を開始 |
| 1992年 | NEDO（新エネルギー・産業技術総合開発機構）先導研究などの研究活動を本格化 |
| 1999年 | 各プロジェクトによる研究活動を背景に設立以来、最高売り上げを達成 |
| 2002年 | 「イオン工学センター」との連携運用を開始 |
| 2003年 | 大型プロジェクト完了を受け、民間からの受託研究を開始 |
| 2005年 | イオン工学センターの事業を一元的に継承 「テクノロジーシードインキュベーション株式会社」グループに参入 |
| 2008年 | 「株式会社イオン工学研究所」の研究開発事業をより一層の発展と継続のため、「株式会社イオンテクノセンター」を新設 （イオン工学研究所からの業務移管で2008年8月1日より操業） |